第422章 EUV难度更大
三人来到张江开发区,走进smee研发大楼,来到一间硕大的车间。
好家伙。
偌大车间,一台巨大的设备占据了大部分空间。
看着线路及零部件密集程度,令人头皮发麻。
“老板,这就是我们研发的duvarfi光刻机,不出意外,应该是目前国内最高水准。”何融明用略带骄傲的口吻介绍道:
“从双工作台光源系统曝光系统到物镜系统光栅系统……任何一个零部件都是国产自主。”
换作八年前,何融明想都不敢想。
这就是资本得当的魔力。
“即便只是duv光刻机,也是全球唯一一个能独立制造的国家。”梁青松说。
他的神情与有荣焉。
“售价准备多少?”常乐问。
“我们计划3000万美元一台。”何融明说。
嗯,asml的duv光刻机型号不同,价格不同。
duv价格区间为2000万欧元至6500欧元。
其中,与国产duv相类似的,售价为6500万美元。
“这是很有竞争力的价格。”常乐点头。
“对,因为全线国产自主,我们的成本可以压到很低。”何融明说。
片刻后,车间内来了很多人。
这些人都是零部件企业和科研机构负责人。
何融明一一向常乐介绍。
常乐一一和这些人握手。
这些企业中,有华卓精科,他们提供双工件台;
有科益虹源,他们提供光源;
有国科精密,提供曝光系统;
有启尔机电,提供浸没系统;
有国望光学,提供物镜;
有沪光所,提供光栅系统;
还有南大光电,他们提供光刻胶;
华特气体提供光刻气体;
华润膜提供光掩膜板;
东方晶源提供缺陷检测系统;
以及,芯源微提供涂胶显影。
正是这些企业的大力研发,才能确保成功研发duv浸没式光刻机。
smee和asml一样,都是系统组合商。
核心技术聚焦设备组合,而不是设备研发。
介绍完且相互认识之后,众人一同来到会议室。
依次坐定,常乐说:
“首先,要感谢各位八年来的不懈努力和辛勤付出。”
“因为你们的砥砺奋进守望相助,国产光刻机才能在如此短的时间内,实现krf光刻到arfi光刻的三级跳,取得了历史性突破。”
“但是,现在还不是我们庆功的时候。”
“新的挑战就在眼前,站在技术迭代的关键十字路口,下一步我们该怎么走,还需要再确定再出发。”
掌声!
常乐说完这几句话,问何融明:“何总,目前asml那边euv光刻机什么进展?”
“据我们所知,应该已经完成原型机研发,但离真正上市商用,还需要时间,具体时间不确定。”何融明说。
“那这么说,我们和asml的差距不大了?”常乐继续问。
“嗯……单单产品方面看,差距确实不大,甚至我们还更有优势。”何融明解释道:
“但是从技术和产品积累看,我们要走的路还有很长。”
“因为他们研发euv,走了22年,必然遇到我们想都想不到的问题。这些问题,接下来我们都会遇到。”
“嗯。”常乐点头,继续问:“何总,从duv跨越到euv难点在哪里?”
“难点很多,光源物镜工作台等等都是非常关键的环节点。”何融明说:
“老板,要不这样,让在座的企业负责人介绍一下?术业有专攻,他们更专业,也更容易解释清楚。”
“行。”常乐点头。
于是,启尔电机负责人先发言:
“常总,何总,我先说说吧。”
“好。”
“首先感谢常总何总这些年,对启尔电机的关心和支持,没有smee的资金支持和帮助,启尔电机不可能走到上市前夜。”
“什么时候上市?”常乐问。
“12月。”
“那我们之前买的那些股票要值钱了。”
“哈哈……”
短暂笑过,启尔电机负责人开始正式介绍情况:
“启尔电机主要为duvarfi光刻提供浸没系统。”
“通过浸没系统和光的折线效应,实现了193纳米到134纳米的等效波长,arf光刻推进到arfi光刻才成为可能。”
浸没系统,就是将镜片与硅片之间的空间,浸入特殊液体中。
由于液体折射率大于1,能够使193纳米波长光源缩短至134纳米,从而实现更高分辨率。
也顺带,将光刻工艺节点从45纳米推进到14纳米10纳米。
“但是……”该负责人话锋一转:
“同样的方法,157纳米波光光源叠加浸入技术后,无法降低波长。”
“所以,进入euv阶段,就需要更为复杂的技术和手段来实现极紫外光源。”
启尔电机负责人介绍完,科益虹源企业负责人接着说:
“对,进入euv研发阶段,目前的主流方法,是用准分子激光器照射锡球靶材,获取极紫外光源。”
“要做到这一步,需要时间,难度不小。”
难度有多大?
非常大。
要产生13.5纳米波长的极紫外光源,需要用高功率准分子激发器,以每秒5万次的频率,不断击中一个正在高速运动中的小锡球。
让小锡球温度上升至50万度,变成等离子体,从而产生极紫外光。
这个小锡球大小为三千万之一米,运动速度为321公里/小时。
“目前,能够提供这种激光器的公司,全球只有一家,德国的通快公司。”
“但是通快公司也不能独立提供,需要北美cymer公司合作和技术授权。”
“此外,还需要立陶宛一家公司提供关键器材。这家立陶宛公司背后又是北美技术授权……”
“所以,在技术方面,我们得不到任何借鉴和支持,还是需要想办法绕开专利限制,慢慢探索。”
光源只是关键困难之一。
国望光学负责人接着说:
“我们负责物镜系统研发,但是,同样需要时间来探索和积累。”
euv物镜需要理论上的绝对平滑平整。
镜片起伏只允许一个原子的误差。
这是理论物理的极限。
通俗讲,就是把镜片放大到鲁省大小。
一个病毒落在镜片上,就像拔地而起的高山。
国望光学负责人说完,华卓精科负责人自信说道:
“我们公司负责工作台,正在集中攻坚,应该在不久的将来,可以达成既定目标要求。”
工作台是干什么的?
相当于刻刀。
在指甲盖大小的硅片上,刻画出几百亿个晶体管。
这需要极高精度。
当然,全球也没有任何一个国家能够独立制造。
需要日韩北美德国等诸多国家的专利支持和技术协同。