第二天。

　　常乐在曾熙梁青松陪同下，来到沪微电子。

　　之所以来沪微电子，主要原因是何融明告诉他，公司的光刻机研发，取得里程碑式的进展。

　　第四代步进式投影式光刻机，即波长193纳米arf准分子激光光刻机（没有浸没系统的duv），研发成功。

　　这意味着光刻最小工艺节点，将推进至65纳米。

　　常乐原本不相信，或者怀疑。

　　短短不到两年时间，能从第三代跨到第四代？

　　常乐揣测可能是好大喜功的老毛病又犯了采用进口零部件组装。

　　何融明毕竟是官僚体系出身。

　　然，华红梁青松告诉他，不是虚言，而是真正地研发成功。

　　沪微电子成功研发arf光刻机后，第一时间与华红半导体对接，得到了华红半导体的验证支持。

　　验证结果表明，成功！

　　华红半导体已经准备采购一批，面向国内客户爆产能。

　　价格嘛，6000万一台，约1000万欧元一台，比asml便宜了50%。

　　沪微电子门口，何融明率领公司高层静静等待。

　　当车队开过来，何融明等人立即鼓起掌来。

　　这不是形式，也不是程式。

　　代表的是沪微电子全体同仁发自内心的欢迎和敬佩。

　　三年多时间，不计成本上千亿专项研发资金砸入，带动了光刻机上下游供应链研发齐头并进。

　　这个行业，尤其是上游的供应链企业何曾打过这么宽裕的仗？

　　换谁，内心不激动不感慨不敬佩？

　　三年来，青灯黄卷孜孜不倦终于不再是晨钟暮鼓道傍之筑；

　　而是阶段性成就历史性成果。

　　乐达投资的格局力度气魄令人心悦诚服。

　　常乐下车。

　　何融明立即走上前来，热情握手，态度足够恭敬：

　　“老板，您可终于来了。”

　　“哈哈，老何，听你在电话里说，我就不得不来，你给我了一个大惊喜啊。”常乐笑着说。

　　“老板言重了，能够突破主要还是依赖母公司的支持，供应商的齐心协力。”何融明说。

　　“谦虚了，管理和工程师们的努力，也是关键因素。”常乐说：

　　“走吧，带我们去看看你们的成果。”

　　“老板，曾总，梁总，诸位，这边请。”何融明带着众人走进研发楼，来到研发车间。

　　车间内摆放着一台硕大的箱体设备。

　　设备半敞开，内部密密麻麻的线路，连接着外行人完全看不懂的设备。

　　至少常乐曾熙看不懂。

　　“老板，这就是我们研发的第四代步进式投影式光刻机……”何融明介绍道：

　　“它采用193纳米arf氟化氩准分子激光光源，可以将工艺制程推进到65纳米。”

　　“这一代光刻机已经基本满足大部分半导体电子产品的需求。”

　　“真正意义上的国产自主？”常乐确认一遍。

　　“对！这台设备的10万多个零部件，哪怕是一颗螺丝钉都是国内厂商提供……

　　“性能经过华红半导体验证，与asml相差无几。”何融明斩钉截铁地。

　　“能够这么快自主研发成功，还是要归功于母公司的资金保障。”

　　“因为资金保障充分，配套企业的研发积极性非常高，供应的产品性能和关键指标不断提升，目前已基本达到国际一流水准。”

　　“核心组建方面，双工作台由华卓精科提供，光源由科益虹源提供，曝光系统由国科提供，国望光学供应了物镜系统，上光所供应了光栅系统……”

　　“配套设施方面，南大光电供应光刻胶，华特气体供应光刻气体，华润微供应光掩膜版，东方晶源供应缺陷检测系统，芯源微供应涂胶显影……”

　　何融明介绍的这些鼎鼎大名的企业，因为乐达投资的介入，较前世，已经提前数年成立并扬帆起航。

　　各类顶级研发工程师纷纷加盟，积极对接和自发成为沪微电子的上下游配套企业，接受其研发安排和调度。

　　钱能聚人心。

　　听完何融明的介绍，常乐不明觉厉，高兴地说：

　　“老何，辛苦了。”

　　“阶段性目标的实现，比我想象中要来得早一些……”

　　“我原来计划可能要10年左右才能突破。”

　　“正常情况下，是这样。”何融明说：

　　“老板，不瞒您说，我们原本也认为要花费较长一段时间。”

　　“只是，一年多以前成功研发krf准分子光刻机后，我们发现研发进度研发效率在不断提升，试错成本一降再降。”

　　“尤其是，华卓精科的双工件台，据他们说，几乎每一步都踏在正确的轨道上。”

　　梁青松接着这个话题继续说：

　　“老板，华红的研发也很顺利。”

　　“接手沪微电子的光刻机后，在验证过程中，65纳米soc芯片一次流片成功率高达90%……”

　　“节省了大量的研发时间和成本，让研发人员积极性大为提高。”

　　听完介绍，常乐笑道：

　　“看来，老天爷都看不下去了，开始垂怜我们了，让我们尽量少走一些弯路。”

　　曾熙说：“这就是天道酬勤。”

　　在场的人都笑了起来。

　　何融明说：“是啊，天道酬勤。duv光刻机研发成功，给足了我们信心。只要坚持不懈，就一定可以抹平代差。”

　　“我们与asml光刻机的差距客观存在，但至少不是30年40年这种令人绝望的差距。”

　　“我们希望能在10年内，基本抹平代差，平起平坐。”

　　梁青松说：“其实，我们也有优势，那就是沿着asml的轨迹走。不用摸着石头过河，试错成本最大限度降到最低。”

　　常乐点头：“都说的很好。大家有这样的共识，就说明我们的认识一致行动一致，我们走在一条正确的道路上。”

　　“伟人曾经说过，雄关漫道真如铁而今迈步从头越。只要我们心往一处想，力往一处使，就一定能够取得成功。”

　　沪微电子食堂。

　　众人聚在一起吃便饭自助餐。

　　长条桌上，常乐看到零零散散上百道菜依次排开，囊括东南西北各种口味。

　　常乐说：“老何，没有搞突击吧。”

　　何融明摇头：“老板，放心，绝对没有搞突击。”

　　“食堂我亲自抓，也曾带队去过母公司，还有乐达汽车的食堂，考察过。”

　　“这么说吧，沪微电子的食堂，应该比母公司只好不差。”

　　“因为我们高薪组建了厨师班，他们每天换着花样做。”

　　“您现在看到的，都是平常工程师们的日常水准，逢年过节，厨师班还会超水平发挥一下。”

　　常乐说：“这就好，研发工作非常耗费脑力和精力，在营养方面必须保障，经费绝对不能省。”

　　接着，何融明谈到下一步研发重点。

　　“下一步我们将着重攻坚浸入式步进式投影式光刻机，也就是arfi光刻。”

　　“目前，我们的供应商启尔电机传来了好消息……”

　　“他们的浸液系统，已经可以将高精度液体温差控制在0.001度，组件试验进展非常顺利，不久就将向我们供货。”

　　“一旦自主arfi光刻机研发成功，那么我们与欧美光刻巨头的代差，将缩小到10年以内，仅一代差距。”

　　“这不是一个令人绝望的鸿沟。”

　　arfi光刻与arf光刻系出同源，都是深紫外线duv光刻机。

　　区别就在于，前者多了一个浸液系统。

　　通过该系统，将镜头与硅片之间的空间浸入液体中，在液体光折射作用下，能够使激光的实际波长大幅度缩短。

　　即193纳米等效缩短到134纳米。

　　从而，实现745纳米工艺制程。

　　到了这个节点，至少10年内，是绝大多数半导体产品的主流。

　　听完介绍，常乐问：“大概多久能够研发成功……”

　　何融明说：“顺利的话，应该会在三年内投向市场，不顺利的话，时间很难估计。”

　　常乐当即举起酒杯：“好，让我们共同预祝研发顺利！”

　　“干杯！”

　　“干杯！”