第278章 郑齐光视察
离开沪微电子返回酒店的路上。
常乐特意拉着梁青松乘坐同一台车。
并与之聊起了半导体产业链各个环节的国产化程度。
梁青松说:“老板,您之前的思路是对的……”
“通过沪微电子华红半导体为资金中转节点,提高上下游企业的对接紧密度和研发积极性,实现同步发展。”
“目前来看,光刻机等设备领域的进步最为明显,以我的从业经验来看,这个环节大概率不会成为瓶颈。”
“但是其他环节面临的形势还很严峻,是吧?”常乐问。
“是的。”梁青松点头。
“你之前交给我的产业分析报告,我看了,怎么说了,虽然心里有准备,但还是触目惊心。”常乐说。
“老板,半导体产业链条实在太长,任何一个环节任何一个细节都有可能被掐住。”梁青松说。
“对,点多面广,投入大见效慢,这不单单是资金问题。目前国产化程度20%,只能说之前的欠账比较多。”常乐说。
梁青松提交的产业分析报告篇幅很长,分析的很细致。
将半导体产业的材料设备检验零部件等各个环节都分析了一个遍。
包括全球现状国内现状代表企业等。
以半导体上游的材料为例,进步有,但要做的工作还有很多。
晶圆制造材料必需品半导体硅片,8英寸的国产化率30%,12英寸的国产化率10%。
全球五大半导体硅片企业,信越化学sumcosiltronic环球晶圆sksiltron等……
占全球市场份额高达90%以上。
硅片上游设备,日本ferrotec,市场占有率高达80%。
国内企业12英寸单晶炉,与国际水平差距明显。
硅片上游材料,电子级多晶硅,国内主要依赖进口。
关键性技术掌握在德日以及美为首的企业手中。
这只是上游环节,中游制造环节下游封装检验环节,差距也非常明显。
“老梁,你的建议我看了,但是我不同意。”常乐说:
“这条产业链很长,乐达牵头能力不足,不是资金问题,而是其他方面。”
梁青松在国内待了几年,平时也接触过不少国内高级官员和顶级企业家。
他对国内的产业氛围和人文环境,有一定的切身体验和感悟。
常乐说的这番话,他一听即懂。
“老板,是我想当然了。宏观层面还是需要换一个主体。”梁青松点头。
“嗯,保持乐观态度,至少我们一直在努力和进步。”常乐说:
“我会把情况如实向上反映,相信上面会重视并采取相应措施应对。”
“希望如此。光刻机突破虽然我们没有对外报道,有关方面也不会对外宣传……”梁青松说:
“但是市场反应最为敏感,希望境外的某些势力不会反应过激。”
“应该不会过激反应,虽然进步较大,但代差仍然较大,且客观存在。”常乐笑着说:
“国内目前的半导体产业,并有对国外产生多大威胁,大洋对岸的重点仍然在他们国内。”
当前是观海第二个任期。
虽然他对亚太再平衡战略,兴趣浓厚。
但现实让他,不得不将精力集中在国内金融危机的余波,衍生出的债务问题非常棘手。
简而言之,当前美债务问题是其最大战略威胁。
在债务问题上的两党对峙,已经深深伤害到美丽国的经济。
五项增税两项削减开支的组合性政策,呈现出“财政悬崖”的危险信号。
观海已在不同场合表露出债务问题的担忧,决心承担起经济救世主的重任。
不会把债务问题交给下一任。
借用前世的经验看,当前北美即便有所警惕大洋对岸的科技进步。
应对思维也不会过于直接过激以及单线化。
至少,当前以菊厂为代表的手机终端业务还未表现出足够威胁。
5g技术芯片设计以及销售潜力未能展现潜力。
高端产业仍然把持在北美企业手中。
前世,懂王手段之所以激烈,主要还是华夏5g半导体产业给了很大压力,这是生死之争。
如果任由以菊厂为代表的华夏科技企业发展,高通必死。
高通,代表北美半导体产业的品牌,也可以说是精华。
它如果倒下,会产生一连串连锁反应。
其中可以预见的后果,就是:产业技术高端就业东移。
接下来还会发生什么,不用多说。
…………
晚上,常乐和郑齐光的秘书取得联系。
通过其秘书,向郑齐光报告这一件事。
郑齐光听到光刻机研发,取得阶段性进展后,很高兴。
他让常乐在魔都等几天,先不要急着回江州。
到底等几天,没有明说。
常乐也不好离开,他先让曾熙回江州,公司有很多事情需要她去定夺。
他自己则每天在魔都街头晃荡,在卖场买了一些带给江夏的礼物。
5天后,受领导委托,郑齐光带队飞抵魔都。
魔都方面主要负责人机场迎接,亲自陪同,直奔沪微电子。
常乐提前接到通知,先一步抵达沪微电子,与何融明汇合。
并在有关部门指导下,做着紧张的迎接准备工作。
郑齐光是典型的务实派。
对花花枕头外强中干的东西,天然抵制和反感。
所以场面不会宏大,但是绝对严谨有序干净整洁。
情况介绍原本有专门人员担任。
但结合多重因素考虑,何融明更为合适。
毕竟只有他经历了两个阶段,能充分体现困顿中不屈挣扎中昂扬的那份艰辛情感。
郑齐光一行抵达沪微电子。
先后与常乐何融明以及研发人员代表一一亲切握手,表达关切关心。
然后,在何融明介绍下,一一察看设备展厅生产线,听取公司方面的发展情况。
郑齐光特意问到了公司目前的困难。
“主要的困难还是技术。”何融明没有避讳,这是共识:
“在arf光刻基础上,我们有信心几年内攻克arfi光刻。”
“但是euv光刻积累较少,技术难题众多面临巨大挑战。”
郑齐光继续问:“具体在哪方面?”
“比如说,极紫外光的产生功率提升部件寿命等诸多问题,需要突破光学物理学的边界;”何融明说道:
“物镜系统需要实现高分辨率高聚焦深度和高传输效率,这需要精湛的光学工艺和材料技术;”
“工作台系统则需要克服稳定性平整度等问题,确保能够承载高精度晶圆,并实现准确曝光……”
郑齐光提前做过功课,一听即明,点头说道:“是啊,你说的这些都已经进入到科技最前沿领域,困难不可避免。”
“而且,我也知道,先进光刻机研发,不是一家企业的问题,而是整条产业链的问题。”
“不过,我这次受领导委托,前来看望大家,就是要解决这个问题。”
他接着勉励沪微电子上下,一定要把握当前历史窗口期,坚持不懈,勇攀高峰,加快突破,切实提高产业产品核心竞争力。
他交代魔都方面,“一定要在发展战略性新兴产业方面,做出表率!”
“要遵循集成电路产业的发展规律,把握住前期投入大研发周期长成果产出难等特点……”
“主动跨前做好服务,及时出台符合企业发展需求的配套政策……”
“提升产业基础集成化链条化现代化水平,不断缩小与先进水平差距,打造创新发展高地。”